一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架
- 专利权人:
- 西安星火眼视光科技有限公司
- 发明人:
- 张力
- 申请号：
- CN201821810971.2
- 公开号：
- CN209404744U
- 申请日:
- 2018.05.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及一种用于测量单眼瞳高的眼镜框架,所述眼镜框架包括镜框(1)和镜框(1)两侧的镜架(2);其特征在于:位于左、右两片所述双眼撑片(3)的横向中央位置分别设置有一组刻度线(4),所述刻度线(4)的刻度基准线位于所述双眼撑片(3)的纵向中间位置且所述刻度线(4)沿着所述双眼撑片(3)的纵向朝向所述镜框(1)的上镜框(11)延伸分布,所述刻度线(4)的最小刻度为1mm,从而使得佩戴者通过观察检测者位置附近处的光源能够将瞳孔位于双眼撑片的刻度线位置,检测者通过标记装置在刻度线上直接标记出佩戴者的单眼瞳高,提高眼镜加工的精准度以及佩戴者的眼镜配戴舒适度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
