The present disclosure provides a system for the internal and external modification of nanoparticles in a continuous process. The system includes (a) a first inlet, (b) a second inlet, (c) a first pump in fluid communication with the first inlet, (d) a second pump in fluid communication with the second inlet, (e) a first flow meter positioned between the first pump and the first mixer, (f) a second flow meter positioned between the second pump and the first mixer, and (g) a mixing chamber in fluid communication with the first flow meter and the second flow meter, and (h) a first heat exchanger in fluid communication with the mixing chamber.La présente invention concerne un système pour la modification interne et externe de nanoparticules dans un processus continu. Le système comprend (a) une première entrée, (b) une seconde entrée, (c) une première pompe en communication fluidique avec la première entrée, (d) une seconde pompe en communication fluidique avec la seconde entrée, (e) un premier débitmètre positionné entre la première pompe et le premier mélangeur, (f) un second débitmètre positionné entre la seconde pompe et le premier mélangeur, et (g) une chambre de mélange en communication fluidique avec le premier débitmètre et le second débitmètre, et (h) un premier échangeur de chaleur en communication fluidique avec la chambre de mélange.
