基于二氟化硼配位的扩环卟啉配合物的近红外发光材料
- 专利权人:
- 浙江工业大学
- 发明人:
- 杨云芳,房晓莉,佘远斌,周春松,李贵杰
- 申请号：
- CN202010601204.6
- 公开号：
- CN111635423A
- 申请日:
- 2020.06.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供了一种基于二氟化硼配位的苯并扩环卟啉的近红外发光材料，所述苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物中，苯环取代吡咯环，极大地提高苯并扩环卟啉大环分子的稳定性；本发明的苯并扩环卟啉二氟化硼配合物近红外发光材料发射波长处于红光范围内，可以强烈发光，是很好的红光发光材料；相比于其它的苯环取代的卟啉，本发明中的分子明显发生了较大的红移，使其广泛应用于光动力研究、核磁成像造影剂等。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
