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抗炎症的2-羰基噻唑和2-羰基恶唑
- 专利权人:
- 埃维克辛公司
- 发明人:
- 乔治·考考陶斯,白利特·约翰森,维多利亚·玛格丽奥蒂,迈克尔·特萨科斯
- 申请号：
- CN201080056033.8
- 公开号：
- CN102647984B
- 申请日:
- 2010.10.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 分子式为(I)的化合物<；CNIPR:IMG <；CNIPR:IMG file="DPA00001564238800011.GIF" wi="75" he="43" img-format="tif"其中X为O或S；R1为H、OH、SH、硝基、NH2、NHC1-6烷基、N(C1-6烷基)2、卤素、卤C1-6烷基、CN、C1-6-烷基、OC1-6烷基、C1-6烷基COOH、C1-6烷基COOC1-6烷基、C2-6-烯基、C3-10环烷基、C6-10芳基、C1-6烷基C6-10芳基、杂环基、杂芳基、CONH2、CONHC1-6烷基、CON(C1-6烷基)2、OCOC1-6烷基、或是酸性基团，如包含羧基、磷酸盐、次膦酸盐、硫酸盐、磺酸盐、或四唑基基团的组。R2被定义为R1或R1和R2连接在一起能形成被多达4个R5基团选择性取代的六元芳环；R3为H、卤素(优选地F)、或C(卤素)3(优选地CF3)；每个R5被定义同R1；V1是共价键或C1-20烷基基团、或C2-20单或多不饱和烯基；所述烷基或烯基基团被一个或多个选自O、NH、N(C1-6烷基)、S、SO、或SO2的杂原子选择性地打断；M1是未取代或是C5-10环状基团或C5-15芳香基团；以及R4是H、卤素、OH、CN、硝基、NH2、NHC1-6烷基、N(C1-6烷基)2、卤C1-6烷基、C1-20烷基基团、或C2-20-单或多不饱和烯基基团，所述C1-20烷基或C2-20烯基基团被一个或多个选自O、NH、N(C1-6烷基)、S、SO、或SO2的杂原子选择性地打断；附带条件是V1M1R4基团作为一个整体提供了至少4个来自于C(R3)基团的骨架原子；或其盐、酯、溶剂化物、N-氧化物、或前药；用于治疗慢性炎症状况。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
