標的遺伝子特異的ヒストン修飾制御剤

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专利权人:

学校法人日本大学

发明人:

永瀬 浩喜,杉山 弘,鈴木 元,板東 俊和,木村 真,大朏 彰道

申请号：

JP2010519093

公开号：

JP4873510B2

申请日:

2009.07.01

申请国别(地区):

JP

年份:

2012

代理人:

摘要：

The present invention provides a target gene-specific histone modification regulator, which comprises a conjugate between a histone modification regulator and a polyamide capable of recognizing a regulatory region in a target gene. This enables the provision of a target gene-specific histone modification regulator.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/