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End effector capable of plasma gasification and endoscope having the same effector
专利权人:
国立大学法人東京工業大学;TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY;HIGASHI KATSUYA;東 克彌
发明人:
沖野 晃俊,宮原 秀一,川野 浩明,林 悠太,東 健,高松 利寛,野村 雄大,黒澤 学,OKINO AKITOSHI,MIYAHARA SHUICHI,KAWANO HIROAKI,HAYASHI YUTA,AZUMA TAKESHI,TAKAMATSU TOSHIHIRO,NOMURA TAKEHIRO,KUROSAWA MANABU
申请号:
JP2018150290
公开号:
JP2020025607A
申请日:
2018.08.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide an improved hemostatic end effector capable of plasma gasification.End effector of the present inventionGas gasification is possibleImproved hemostatic end effector;End effectorHaving a housing structure with internal spaceEnd effectorA first hole for passing the gas present outside the end effector to the interior of the end effector;The first hole isLocated adjacent to the distal end of the end effectorFirst hole andComprises means for plasma gasification.Selectable diagram 3C【課題】ガスのプラズマ化が可能な、改善された止血可能なエンドエフェクタを提供すること。【解決手段】本発明のエンドエフェクタは、ガスのプラズマ化が可能な、改善された止血用エンドエフェクタであり、エンドエフェクタは、内部空間を有する筐体構造を有し、エンドエフェクタは、エンドエフェクタの外部に存在するガスをエンドエフェクタの内部に通すための第1の孔であって、第1の孔は、エンドエフェクタの遠位端部に隣接する位置に設けられている、第1の孔と、ガスをプラズマ化するための手段とを備える。【選択図】図3C
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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