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纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架及其制备方法
专利权人:
扬州大学
发明人:
仲毅,史宏灿,卢丹,潘枢,单一波
申请号:
CN201910122543.3
公开号:
CN109821064A
申请日:
2019.18.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明公开了一种纳米二氧化硅修饰的3D打印气管支架及其制备方法,所述3D打印气管支架以PCL材料制成,该3D打印气管支架的孔径为200µm,本发明公开的制备方法具体包括多孔气管支架的制备和PCL支架的纳米二氧化硅修饰两个步骤,经纳米表面修饰后的3D打印PCL气管支架具有优良的生物力学性能,同时其生物相容性利于细胞的贴附和生长,体内埋植实验证实其具有用于组织工程气管重建的理想材料的前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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