X射线曝光检测方法及X射线曝光检测系统
- 专利权人:
- 友达光电股份有限公司
- 发明人:
- 许肇驿,陈彦宇,黄正义
- 申请号：
- CN202211051550.7
- 公开号：
- CN115561797A
- 申请日:
- 2022.08.31
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 一种X射线曝光检测方法及X射线曝光侦测检测系统，所述X射线曝光检测方法包含以下步骤：于第一模式下，藉由平板传感器的处理器比对平板传感器的存储器所储存的第一影像及第二影像，以产生比对结果，第一影像及第二影像为平板传感器感测所获得；于第一模式下，藉由处理器判断比对结果是否超过预设阈值；若比对结果超过预设阈值，藉由处理器切换平板传感器的第一模式至第二模式；于第二模式下，藉由处理器读取存储器所储存的第三影像及第四影像，第三影像及第四影像为平板传感器被X射线照射所获得；以及于第二模式下，藉由处理器传输存储器所储存的第三影像及第四影像至外部系统。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
