您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

СПОСОБ ЛЕЧЕНИЯ ГЛИАЛЬНЫХ ОПУХОЛЕЙ ГОЛОВНОГО МОЗГА СУПРАТЕНТОРИАЛЬНОЙ ЛОКАЛИЗАЦИИ
专利权人:
FEDERALNOE GOSUDARSTVENNOE BJUDZHETNOE UCHREZHDENIE NAUKI INSTITUT MOZGA CHELOVEKA IM. N.P. BEKHTEREVOJ ROSSIJSKOJ AKADEMII NAUK (IMCH RAN)
发明人:
OSTREJKO OLEG VIKENTEVICH,Острейко Олег Викентьевич,MOZHAEV STANISLAV VASILEVICH,Можаев Станислав Васильевич
申请号:
RU2013136100/14
公开号:
RU0002533032C1
申请日:
2013.07.31
申请国别(地区):
RU
年份:
2014
代理人:
摘要:
FIELD: medicine.SUBSTANCE: access to a growth is planned and gained with the use of a neuronavigation system. A zone of the active growth comprising a thermal destruction focus is preliminarily localised. A light fibre is delivered to the growth surface. The growth is exposed to infrared laser light at a wave length of 950-1050 nm in a continuous mode of power of 2W at duration of 40-60 sec. The total radiation dose is 80-120 J. Herewith the light fibre is reciprocated smoothly along the axis.EFFECT: reducing a risk of haemorrhagic complications, ensuring the thermal effect taking into account the growth biological activity distribution with using short-term exposure and a small amount of the intensive laser light.1 exИзобретение относится к медицине, а именно к нейрохирургии, и может быть использовано для малоинвазивного хирургического лечения глиальных опухолей головного мозга супратенториальной локализации. Осуществляют планирование и проведение доступа к опухоли с использованием нейронавигационной системы. Предварительно определяют зону активного роста опухоли с включением ее в фокус термодеструкции. Световолокно подводят к поверхности опухоли. Воздействуют на опухоль лазерным излучением инфракрасного диапазона длиной волны 950-1050 нм в постоянном режиме мощностью 2 Вт с экспозицией 40-60 сек. Общая доза излучения 80-120 Дж. При этом осуществляют плавное возвратно-поступательное движение световолокна вдоль его оси. Способ обеспечивает снижение риска геморрагических осложнений, достижение термального эффекта с учетом распределения биологической активности опухоли, используя кратковременное воздействие и небольшое количество интенсивного лазерного излучения. 1 пр.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充