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一种RGD肽修饰的硼载药体系及其制备和应用
专利权人:
东华大学
发明人:
朱利民,付梓,吴建荣
申请号:
CN201910808699.7
公开号:
CN110368501A
申请日:
2019.29.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明涉及一种RGD肽修饰的硼载药体系及其制备和应用,RGD肽修饰的硼复合材料作为药物载体负载药物。本发明实验条件易控制且操作简单;得到的载药复合物具有良好的生物相容性,能够长效缓释,且具有pH和近红外光(NIR)双重敏感药物释放性质,在较低pH值和近红外光照射环境下释放率高,适合肿瘤组织的微环境,可用于联合低温光热治疗和化疗协同作用,具有在制备肿瘤靶向、成像及协同治疗药物方面的应用前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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