产生将提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法和设备
- 专利权人:
- 三星电子株式会社
- 发明人:
- 安民修,方远喆
- 申请号：
- CN201310272009.3
- 公开号：
- CN103537017A
- 申请日:
- 2013.07.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 一种产生将提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法和设备。所述方法包括：接收将被超声辐射到的目标区域来作为输入；确定由聚焦超声治疗设备辐射的单个超声的焦斑的尺寸；基于确定的焦斑的尺寸来确定焦斑的位置，使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远；基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度；基于焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度，产生用于由聚焦超声治疗设备辐射超声的治疗计划。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
