一种温室大棚用高位栽培装置
- 专利权人:
- 应南其
- 发明人:
- 应南其
- 申请号：
- CN202010593687.X
- 公开号：
- CN111699882A
- 申请日:
- 2020.06.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种温室大棚用高位栽培装置，包括温室大棚主体和育苗主体，所述温室大棚主体内部安装有育苗主体，所述温室大棚主体顶端设置有启动机构，所述温室大棚主体内部设置有升降机构，所述温室大棚主体内部设置有传动机构，所述温室大棚主体内部设置有联动机构。本发明解决了由于高位栽培装置需将多个栽培盆分散在不同的高度，而大棚顶端的喷头在对喷头灌溉时，上部分的育苗易阻挡下部分的育苗，从而导致育苗的灌溉不够均匀，且延长了下部分育苗的生长周期的问题，通过多组育苗在同一高度时可自动开启喷头，当多组育苗分散时，可自动关闭喷头，实现了对育苗的均匀灌溉，降低了育苗的生长周期。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
