莫达非尼旋光对映异构体的晶形及其制备方法
- 专利权人:
- 塞弗伦法国公司
- 发明人:
- O·内克布洛克,L·库瓦西耶,S·格拉夫,G·塞吕勒,G·科克雷尔,S·罗斯,C·贝瑟利耶夫尔,F·马莱,A·J·范朗热韦尔德
- 申请号：
- CN200710001763.8
- 公开号：
- CN101012189B
- 申请日:
- 2003.12.18
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的晶形的方法，包括下列步骤：i)将莫达非尼其中一个旋光对映异构体溶于除乙醇之外的溶剂中；ii)使莫达非尼的对映异构体结晶；iii)回收所得莫达非尼对映异构体的晶形。本发明还涉及一种制备莫达非尼旋光对映异构体的方法。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
