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REDUCTION OF IMPLANT INFECTION VIA TUNABLE STIMULATION OF LOCALIZED ADAPTIVE IMMUNE RESPONSE
专利权人:
WUSTENBERG; William
发明人:
WUSTENBERG, William,FINCH, Michael,MUNSHI, Cyrus B.
申请号:
USUS2012/057194
公开号:
WO2013/049106A2
申请日:
2012.09.26
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
Compositions, implantation devices and methods for stimulating an immune response to infection are discussed. In some examples, the compositions, implantation devices or methods of regulating the amplification of an adaptive immune response to infection involves use of one or more particles locally at a surgical or implant site to control bacterial infections without detrimental systemic side-effects. In some examples, the particles can be coated or layered onto the surface of an implantable device or material. In other examples, the particles can be injected into the site of implantation.La présente invention concerne des compositions, des dispositifs dimplantation et des procédés pour stimuler une réponse immunitaire à une infection. Dans des exemples, les compositions, dispositifs dimplantation ou procédés de régulation de lamplification dune réponse immunitaire adaptative à une infection mettent en œuvre lutilisation dune ou plusieurs particules localement à un site chirurgical ou dimplant pour lutter contre les infections bactériennes sans effets secondaires systémiques délétères. Dans certains exemples, les particules peuvent être enrobées ou couchées sur la surface dun dispositif ou matériau implantable. Dans dautres exemples, les particules peuvent être injectées dans le site dimplantation.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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