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成膜装置、成膜方法以及存储介质
- 专利权人:
- 东京毅力科创株式会社
- 发明人:
- 藤川诚,新纳礼二,桥本浩幸,山口达也,野泽秀二
- 申请号：
- CN201810206185.X
- 公开号：
- CN108630577A
- 申请日:
- 2018.03.13
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 刘新宇
- 摘要：
- 本发明涉及成膜装置、成膜方法以及存储介质。能够在纵型的反应容器内对被棚架状地保持的多个基板进行成膜处理时分别控制基板的中心部的膜厚和周缘部的膜厚。具备：成膜气体喷出部，设置在反应容器内的基板的保持区域的后方，用于喷出所述成膜气体；排气口，设置在基板的保持区域的前方，用于排出成膜气体；旋转机构，用于使基板保持器具绕纵轴进行旋转；以及加热部，将反应容器内加热至比从成膜气体喷出部喷出的成膜气体的温度低的温度。在成膜气体喷出部中，第一喷出口和第二喷出口各自朝向不同的方向开口，使得从第一喷出口喷出的成膜气体与反应容器内的气体降温用构件碰撞而降温，从第二喷出口喷出的成膜气体不与气体降温用构件碰撞。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
