一种遏蓝菜的栽培基质及其制备方法与应用
- 专利权人:
- 北京市农林科学院
- 发明人:
- 郑瑞伦,侯新村,胡艳霞,田小霞
- 申请号：
- CN202010139312.6
- 公开号：
- CN111248035A
- 申请日:
- 2020.03.03
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及植物栽培技术领域,尤其涉及一种遏蓝菜的栽培基质及其制备方法与应用;以体积百分比计,所述栽培基质的原料包括:草炭70~80%、土壤10~15%、蛭石2~5%、陶粒8~12%;利用所述栽培基质栽培遏蓝菜的方法,包括将幼苗移入所述栽培基质中,在光照/黑暗时间12~16小时/12~8小时、湿度为60~80%、温度为20~35℃条件下培养的步骤。本发明提供的栽培基质适合遏蓝菜的pH值、以及通气条件,可以供遏蓝菜全生育期正常生长(期间不需追肥),且不易得病虫害;本发明提供的栽培方法,可以提高种子发芽率,并且能够缩短结实时间。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
