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用于制备釉面陶瓷体的方法
专利权人:
义获嘉伟瓦登特公司
发明人:
F·罗斯布鲁斯特,R·亨斯特,S·克若里柯威斯基,C·里茨伯格,D·塔乌基
申请号:
CN201880011723.8
公开号:
CN110291058A
申请日:
2018.23.03
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于制备釉面陶瓷体的方法,其中(a)将上釉材料施加到非致密烧结的基底材料,并且(b)在从第一温度T1到高于所述第一温度的第二温度T2延伸的温度范围使所述基底材料和所述上釉材料经受热处理,以获得釉面体,其中,在所述温度T1下,所述上釉材料的粘度大于102.5Pa·s,特别是大于104.0Pa·s,优选大于105.6Pa·s,并且特别优选大于107.0Pa·s,并且在所述温度T2下,所述上釉材料的粘度小于109Pa·s,特别是小于107Pa·s,并且优选小于105.6Pa·s。本发明还涉及上釉材料用于对非致密烧结的基底材料上釉的用途。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

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