反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理
- 专利权人:
- 纳诺嘉德技术有限责任公司
- 发明人:
- K.M.基纳,M.A.霍克沃尔特
- 申请号：
- CN202010264719.1
- 公开号：
- CN111602710A
- 申请日:
- 2016.10.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及反应性气体、其产生系统和使用其的产品处理。一种用反应性气体处理产品或表面的方法，其包括：通过由工作气体形成高电压冷等离子体(HVCP)而产生反应性气体；输送所述反应性气体远离HVCP至少5cm；随后，使所述产品或表面与所述反应性气体接触。所述HVCP不与所述产品或表面接触。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
