The present invention includes a plasma discharge portion in which an inlet and an outlet are formed and filled with an adsorbent therein； and an electrode portion for generating plasma in the plasma discharge portion； the adsorbent supported by a catalyst The present invention relates to an ethylene processing apparatus. The present invention uses an ethylene processing apparatus, (a) injecting a gas containing ethylene into the plasma discharge portion filled with the adsorbent； (b) applying a voltage to the electrode portion, And (c) cooling the plasma discharge section. The method for treating ethylene includes a step of generating plasma in the section to decompose the injected ethylene.本発明は、流入口及び排出口が形成され、内部に吸着剤が充填されるプラズマ放電部；及び前記プラズマ放電部の内部にプラズマを発生させる電極部；を含み、前記吸着剤は触媒が担持されていることを特徴とするエチレン処理装置に関する。本発明はエチレン処理装置を利用して、（ａ）前記吸着剤が充填されたプラズマ放電部内にエチレンを含有したガスを注入する段階；（ｂ）前記電極部に電圧を印加し、前記プラズマ放電部内にプラズマを発生させて注入されたエチレンを分解する段階；及び（ｃ）前記プラズマ放電部を冷却させる段階；を含むエチレン処理方法に関する。
