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高度なデバイスのウェハ上の粒子性能に対して化学的適合性のあるコーティング材料
专利权人:
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED
发明人:
サン ジェニファー ワイ,カヌンゴ ビラジャ プラサド,ルボミルスキー ディミトリー
申请号:
JP20150524461
公开号:
JP6275713(B2)
申请日:
2013.07.26
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
To manufacture a coating for an article for a semiconductor processing chamber, the article including a body of at least one of Al, Al2O3, or SiC, and a ceramic coating on the body. The ceramic coating includes a compound comprising Y2O3 in a range from about 50 mol % to about 75 mol %, ZrO2 in a range from about 10 mol % to about 30 mol %, and Al2O3 in a range from about 10 mol % to about 30 mol %, wherein the number of nodules per inch is in a range from about 30 nodules to about 45 nodules and the porosity is in a range from about 2.5% to about 3.2%.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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