杀菌剂和含有该杀菌剂的清洗剂

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专利权人:

正和株式会社

发明人:

水谷增美,市原和好,山下圭子

申请号：

CN99100886.3

公开号：

CN1228917A

申请日:

1999.02.24

申请国别(地区):

中国

年份:

1999

代理人:

程伟

摘要：

一种适宜消除军团菌的抗菌剂,含有至少一种式(1)所代表的氧化胺和/或至少一种式(2)所代表的氧化胺。其中R₁代表C_nH_2n+1(OC₂H₄)_m,n为12—18,m为0—10,R₂代表氢原子或具有1—4个碳原子的烷基,并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。其中R₁代表C_nH_2n+1(OC₂H₄)_m,n为12—18,m为0—10,R₃代表(C_pH_2p)OH,其中p为1—4,并且实线箭头代表氮和氧之间的配位键。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/