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放射性卤素标记化合物的制造方法及放射性医药的制造方法
专利权人:
日本医事物理股份有限公司
发明人:
奥村侑纪,中村大作,桐生真登,市川浩章,殿谷豪太,杉本尚美
申请号:
CN201880040465.6
公开号:
CN110809575A
申请日:
2018.28.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明提供放射性卤素标记化合物的制造方法,其包含以下的工序:通过对于具备有可利用放射性卤化物离子(X‑)而进行亲核取代的离去基团(L)的放射性卤素标记前体化合物(S‑L),实行放射性卤化反应,从而获得包含放射性卤素标记前体化合物(S‑L)与放射性卤化反应的反应产物(S‑X)的反应混合物RM1的工序;通过将反应混合物RM1与多元酸或其盐进行混合,从而获得反应混合物RM2的工序;以及利用固相萃取法,从反应混合物RM2中将反应产物(S‑X)进行纯化的工序。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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