JEFFREY JON,ジェフリー・ジョン,DUROCHER KEVIN M,ケヴィン・マシュー・デュローシャー
申请号：
JP2011140248
公开号：
JP2012005839A
申请日:
2011.06.24
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anti-scatter X-ray grid device and a method of manufacturing the same.SOLUTION: The method of manufacturing the anti-scatter X-ray grid device (10), and the X-ray grid device (10) manufactured therefrom, includes: a step of providing a substrate (14) that is made of a first material (16) substantially non-absorbent of X-rays and including channels (18) therein a step (32) of applying a layer second material (34) that is also substantially non-absorbent of X-rays onto a sidewall (20) of the channels (18) and a step of applying a material (42) that is substantially absorbent of X-rays into a portion of the channels (18) so as to define a plurality of X-ray absorbing elements (12).COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】散乱防止X線グリッド装置及びその製造方法を提供すること。【解決手段】散乱防止X線グリッド装置(10)の製造方法、及びこれにより作られたX線グリッド装置(10)は、X線を実質的に吸収しない第1の材料(16)から作られ、チャンネル(18)を内部に有する基材(14)を準備する段階と、同様にX線を実質的に吸収しない第2の材料(34)の層をチャンネル(18)の側壁(20)上に施工する段階(32)と、X線を実質的に吸収する材料(42)をチャンネル(18)の一部に施行してこれにより複数のX線吸収要素(12)を形成する段階(44)とを含む。【選択図】 図1
