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用于分析集成电路的方法、设备和集成电路
- 专利权人:
- NXP股份有限公司
- 发明人:
- 马特吉·戈森斯,弗兰克·萨卡里亚斯
- 申请号：
- CN200680024329.5
- 公开号：
- CN101213465A
- 申请日:
- 2006.05.04
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2008
- 代理人:
- 朱进桂
- 摘要：
- 公开了一种用于分析集成电路(IC)的方法，该集成电路包括位于衬底(10)的第一表面上的多个半导体器件(20)。该方法包括以下步骤：形成衍射透镜(100)，衍射透镜(100)包括位于与衬底(10)的第一表面相对的另一表面的第一区域中的多个同心衍射区(110)，以及通过衍射透镜(100)光学访问所述多个半导体器件(20)中的一个子集(30)的另一个步骤。由于衍射透镜(100)可以在亚微米尺寸上实现的事实，可以比折射透镜更便宜地形成透镜(100)，折射透镜通常为数个微米深。并且，可以容易地将透镜(100)从衬底(10)上抛去，这便于在衬底(10)上重复地重新安置透镜(100)，从而提高了光学检测到IC内部缺陷的机会。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
