When controlling ion beam emission from a synchrotron, in order to suppress the occurrence of current ripples in the emitted beam, caused by a radio-frequency voltage applied to emission radio-frequency electrodes for increasing the betatron oscillation amplitude of a circling ion beam, and increase the dose rate, an emission control device (20) applies, as the radio-frequency voltage to be applied to emission radio-frequency electrodes (16a), a radio-frequency voltage constituted by a first radio-frequency voltage (Fs) for increasing the oscillation amplitude in a range not exceeding stable limits such that a beam circling inside a synchrotron (13) is not emitted to the outside of the synchrotron, and a second radio-frequency voltage (Fe) for emitting the beam from the synchrotron.Lors de la commande de lémission dun faisceau ionique provenant dun synchrotron, afin de supprimer la survenue dondulations de courant dans le faisceau émis, provoquée par une tension de radiofréquence appliquée aux électrodes à émission radiofréquence pour augmenter lamplitude doscillation bêtatron dun faisceau ionique circulaire, et daugmenter le débit de dose, un dispositif (20) de commande démission applique, en tant que tension de radiofréquence à appliquer aux électrodes à émission radiofréquence (16a), une tension de radiofréquence constituée dune première tension de radiofréquence (Fs) pour augmenter lamplitude doscillation dans une plage nexcédant pas les limites stables de sorte quun faisceau circulaire à lintérieur dun synchrotron (13) nest pas émis vers lextérieur du synchrotron, et dune seconde tension de radiofréquence (Fe) pour émettre le faisceau à partir du synchrotron.シンクロトロンからイオンビームの出射制御を実施する際、周回しているイオンビームのベータトロン振動振幅を増大させる出射用高周波電極に印加する高周波電圧に起因する出射ビームの電流リップルの発生を抑制し、線量率を向上するため、出射制御装置20は、出射用高周波電極16aに印加する高周波電圧として、シンクロトロン13内を周回するビームをシンクロトロン外に出射されないように、安定限界を超えない範囲で振動振幅を増大させるための第1高周波電圧Fsと、シンクロトロンからビームを出射させるための第2高周波電圧Feとで構成される高周波電圧を印加する。
