The present invention refers to a process for the preparation of pyrazole derivatives of formula (I) wherein W is nitrogen or CR1, R1, R2, R4 and R5 are each independently selected from hydrogen, halogen, C1-C6-alkyl, C1-C6-haloalkyl, C1-C6-alkoxy, C1-C6-haloalkoxy, R7S(O)n, nitro, cyano, and pentafluorothio； R3 is hydrogen, halogen, C1-C6-alkyl, C1-C6-haloalkyl, C1-C6-alkoxy, C1-C6-haloalkoxy, R7S(O)n, nitro, cyano, pentafluorothio or phenyl which is unsubstituted or substituted by 1 to 5 members of the group consisting of halogen, C1-C6-alkyl, C1-C6-haloalkyl, C1-C6-alkoxy, C1-C6-haloalkoxy, R7S(O)n, nitro, cyano, and pentafluorothio which are the same or different； R7 is C1-C6-alkyl or C1-C6-haloalkyl； and n is 0, 1, or 2； characterized in that hydrazines of formula (II) wherein W, R2, R3, R4, and R5 are as defined for pyrazole derivatives of formula (I), are reacted with a compound of formula (III)L'invention concerne un procédé de préparation de dérivés de pyrazole de formule (I), dans laquelle W représente un atome d'azote ou CR1, R1, R2, R4 et R5 sont chacun indépendamment choisis parmi un atome d'hydrogène, d'halogène, un groupe alkyle en C1-C6, halogénoalkyle en C1-C6, alcoxy en C1-C6, halogénoalcoxy en C1-C6, R7S(O)n, nitro, cyano, et pentafluorothio ； R3 représente un atome d'hydrogène, d'halogène, un groupe alkyle en C1-C6, halogénoalkyle en C1-C6, alcoxy en C1-C6, halogénoalcoxy en C1-C6, R7S(O)n, nitro, cyano, pentafluorothio ou phényle, qui n'est pas substitué ou qui est substitué par 1 à 5 éléments de l'ensemble consistant en atome d'halogène, groupe alkyle en C1-C6, halogénoalkyle en C1-C6, alcoxy en C1-C6, halogénoalcoxy en C1-C6, R7S(O)n, nitro, cyano, et pentafluorothio, qui sont identiques ou différents ； et n vaut 0, 1, ou 2 ； caractérisé en ce qu'on fait réagir des hydrazines de formule (II), dans laquelle W, R2, R3, R4, et R5 sont définis comme pour les dérivés de pyrazole de formule (I), avec un composé de formule (III).
