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专利权人:
S.C. JOHNSON & SON; INC.
发明人:
Fei GAO,Maude Christian MEIER,Randy C. YUHAS
申请号:
MX2015017979
公开号:
MX2015017979A
申请日:
2014.06.27
申请国别(地区):
MX
年份:
2016
代理人:
摘要:
An emanation system (100) is disclosed that include a substrate (102), a secondary substrate (140), and an air treatment material (106). The secondary substrate (140) is adapted to be wetted with runoff from the air treatment material applied to the substrate (102). When applied, the air treatment material emanates from the substrate (102) at a first release rate and from the secondary substrate (140) at a second release rate.Se describe un sistema (100) de emanación, el cual incluye un substrato (102), un substrato secundario (140) y un material (106) de tratamiento de aire. El substrato (140) secundario está adaptado para ser mojado con escurrimiento de material de tratamiento de aire aplicado en el substrato (102). Cuando se aplica, el material de tratamiento de aire emana desde el substrato (102) a un primer índice de liberación y desde el substrato (140) secundario a un segundo índice de liberación.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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