A deep brain stimulation electrode (100), a production method therefor and a stimulation system, the electrode (100) comprising electrode bodies (10, 10a) having a proximal end and a distal end, the electrode bodies (10, 10a) also having a length direction (A) and a width direction (B) which are mutually perpendicular. The electrode (100) further comprises a plurality of electrode contacts (11, 11a) located at the proximal end, and an interval (L) between two adjacent electrode contacts (11, 11a) in the length direction (A) is 1.0 ± 0.1 mm. Such design of intervals effectively takes into account position deviation of the deep brain stimulation electrode (100) inserted into a nucleus (200) which is caused by occurrences of errors such as magnetic resonance deviation, electrode drift, brain collapse and operating rack, thereby significantly increasing the effective stimulation area of the electrode contacts (11, 11a) located in the nucleus (200), thus enhancing the stimulation effect on a patient, reducing the side effects caused by the stimulation in case of insertion deviation, and prolonging the service lives of batteries in deep brain electric stimulation systems.La présente invention concerne une électrode de stimulation cérébrale profonde (100), son procédé de production et un système de stimulation, lélectrode (100) comprenant des corps délectrode (10, 10a) ayant une extrémité proximale et une extrémité distale, les corps délectrode (10, 10a) ayant en outre une direction longitudinale (A) et une direction transversale (B) qui sont mutuellement perpendiculaires. Lélectrode (100) comprend en outre une pluralité de contacts délectrode (11, 11a) situés à lextrémité proximale, et un intervalle (L) entre deux contacts délectrode adjacents (11, 11a) dans la direction longitudinale (A) est de 1,0 ± 0,1 mm. Une telle conception dintervalles prend en compte efficacement un écart de position de lélectrode de stimulation cérébrale profonde (100) insérée dans un noyau (200)
