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System and method for monitoring phototoxicity during ophthalmic surgery
专利权人:
ノバルティス アーゲー
发明人:
ジェラルド デイビッド ベイチャー,マーク デイビッド ラベル
申请号:
JP2019548781
公开号:
JP2019535488A
申请日:
2017.11.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present disclosure provides systems and methods for monitoring phototoxicity caused by vitreous visualization ("VVD") illumination during ophthalmic surgery. The systems and methods determine the cumulative amount of light energy incident on the retina, the distance between the cutter and the retina of the VVD, and the area where the vitreous has been removed, or any combination thereof, corresponding to phototoxicity. . The present disclosure further provides a method of monitoring and preventing phototoxicity caused by VVD illumination during ophthalmic surgery. The method can further include determining a distance between the cutter of the VVD and the retina and determining a location where the vitreous has been removed based on a focal region of the retina where the plurality of light spots have contacted. .本開示は、眼科手術中に硝子体可視化装置(「VVD」)照明によってもたらされる光毒性をモニタリングするシステムおよび方法を提供する。本システムおよび方法は、光毒性に対応する、網膜に入射した光エネルギーの累積量、VVDのカッタと網膜との間の距離、および硝子体が除去された領域、またはそれらの任意の組合せを求める。本開示は、眼科手術中にVVD照明によってもたらされる光毒性をモニタリングし防止する方法をさらに提供する。本方法は、VVDのカッタと網膜との間の距離を求めることと、複数の光スポットが接触した網膜の焦点領域に基づき、硝子体が除去された場所を求めることとをさらに含むことができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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