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一种二氢吡唑类化合物及其制备方法和用途
专利权人:
合肥工业大学
发明人:
李青山,沈邦念,李遥,阮班锋
申请号:
CN201910369573.4
公开号:
CN109912574A
申请日:
2019.06.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明公开了一种二氢吡唑类化合物及其制备方法和用途,其中二氢吡唑类化合物的结构通式如下:其中,R1选自H、4‑CH3、4‑OCH3、4‑Br或4‑Cl;R2选自4‑Cl、4‑F、4‑OCH3或4‑CH3。本发明二氢吡唑类衍生物作为BRAF/P13K双靶点抑制剂,对vemurafenib有耐药性的黑色素瘤细胞A375R有良好的抗增殖活性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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