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整髪用被膜形成樹脂
专利权人:
花王株式会社
发明人:
狩谷 直洋,猿渡 欣幸,向山 高広
申请号:
JP2005226642
公开号:
JP4861655B2
申请日:
2005.08.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film-forming resin for hair fixing, not becoming sticky even in high humidity, capable of keeping the hair style for a long period, and exhibiting excellent cleanability at shampooing and to provide a hair cosmetic containing the resin.SOLUTION: The film-forming resin for the hair fixing is obtained by copolymerizing monomer components comprising the following monomer components (A) to (D): (A) CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3 of 0.5-20 wt.% (B) CH2=C(R1)-COOR4 of 20-98.5 wt.% (C) CH2=C(R1)-COO-R5-OH of 0.5-60 wt.% and (D) an ampholytic group-containing ethylenically unsaturated monomer of 0.5-50 wt.%. (In the formulas, R1 is a hydrogen atom or a methyl group R2 is a 1-3C divalent saturated hydrocarbon group R3 is a 1-3C alkyl group or an acetyl group R4 is a 1-18C alkyl group and R5 is a 2-8C alkylene group). The hair cosmetic contains the resin.COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT【課題】、高湿度下でもべたつくことなく、ヘアスタイルを長時間保持でき、かつシャンプー洗浄性にも優れる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料を提供することを目的とする。【解決手段】次のモノマー成分(A)~(D)を含むモノマー成分を共重合させて得られる整髪用被膜形成樹脂及びこれを含有する毛髪化粧料。(A) CH2=C(R1)-COO-R2-Si(OR3)3:0.5~20重量%(B) CH2=C(R1)-COOR4 :20~98.5重量%(C) CH2=C(R1)-COO-R5-OH:0.5~60重量%(D) 両イオン性基含有エチレン性不飽和モノマー:0.5~50重量%〔R1:水素原子又はメチル基、R2:C1~C3の2価飽和炭化水素基、R3:C1~C3ののアルキル基又はアセチル基、R4はC1~C18のアルキル基、R5はC2~C8のアルキレン基〕【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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