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가스 처리 설비
专利权人:
发明人:
JEE, HYUN WOOKR,지현우,JUNG, YONG WONKR,정용원,AHN, EUI SUBKR,안의섭,LIM, KYEONG INKR,임경인,CHANG, GEUN SOOKR,장근수,HWANG, DEOK YOONKR,황덕윤,LEE, CHUL JAEKR,이철재,JUNG, JE HOKR,정제호,KIM, HAK SUNGKR,김학성
申请号:
KR1020160030921
公开号:
KR1016428450000B1
申请日:
2016.03.15
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention relates to a facility for gas treatment, capable of uniformly distributing liquid into a filling layer even in a shaking state. Specifically, according to an embodiment of the present invention, the facility for the gas treatment includes: a treatment liquid introducing part in which treatment liquid for treating target gas is introduced a gas introducing part in which the target gas is introduced a first filling layer in which the target gas is introduced inside the first filling layer to encounter with the treatment liquid a second filling layer in which the target gas is introduced inside the second filling layer to encounter with the treatment liquid which has passed through the first filling layer a first distributor for distributing the treatment liquid introduced from the treatment liquid introducing part and a second distributor for distributing the treatment liquid introduced from the first filling layer. In addition, the second distributor includes: a plurality of target gas inlets introducing the target gas from the second filling layer a treatment liquid outlet for effusing the treatment liquid to the second filling layer a cover member for preventing the treatment liquid flowing out of the first filling layer from effusing to the target gas inlet and a partition wall disposed in a space between a plurality of the target gas inlets.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명은 가스 처리 설비에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 가스 처리 설비는, 대상가스를 처리하기 위한 처리액이 유입되는 처리액 유입부 상기 대상가스가 유입되는 가스 유입부 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 처리액과 만나도록 제공되는 제1 충진층 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 제1 충진층을 거친 처리액과 만나도록 제공되는 제2 충진층 상기 처리액 유입부로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제1 분배기 및 상기 제1 충진층으로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제2 분배기를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 분배기는, 상기 제2 충진층으로부터 상기 대상가스가 유입되는 복수 개의 대상가스 유입구 상기 처리액이 상기 제2 충진층으로 유출되는 처리액 유출구 상기 제1 충진층으로부터 흘러나온 처리액이 상기 대상가스 유입구로 유출되는 것을 차단하는 커버부재 및 복수 개의 상기 대상가스 유입구들 사이의 공간에 구비되는 격벽을 포함할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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