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一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法
专利权人:
云南省农业科学院甘蔗研究所
发明人:
吴才文,夏红明,杨昆,杨洪昌,尹兴祥,刘家勇,赵俊,赵培方
申请号:
CN200910094878.5
公开号:
CN101637088A
申请日:
2009.08.26
申请国别(地区):
中国
年份:
2010
代理人:
陈 左
摘要:
一种甘蔗土壤地膜多层覆盖栽培方法,主要技术措施是甘蔗栽种后先盖土,然后使用厚0.008~0.012cm的光解地膜对种植沟进行覆盖,再用细土把地膜四周及地膜上表面压紧压实,本发明可防止膜内杂草的生长,促进甘蔗幼苗自然穿过地膜,通过地膜和土壤多次对甘蔗种植沟的覆盖,实现蔗田的有效保湿,解决甘蔗幼苗难于穿透地膜内而造成烧苗的问题,满足甘蔗出苗、生长对湿度和温度的特殊需求。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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