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METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE WITH HIGH ASPECT RATIO, STRUCTURE WITH HIGH ASPECT RATIO AND X-RAY IMAGING APPARATUS
专利权人:
KONICA MINOLTA INC;コニカミノルタ株式会社
发明人:
YAMAMOTO YUKO,山本 裕子
申请号:
JP2018097277
公开号:
JP2019203151A
申请日:
2018.05.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a structure with a high aspect ratio, by which sticking can be further reduced, the above structure, and an X-ray imaging apparatus using the structure.SOLUTION: The method for manufacturing a structure includes steps of: forming, on at least one main surface of a predetermined substrate, a plurality of holes extending in a direction intersecting the main surface; forming, on the main surface where the plurality of holes is formed, a resist layer having a plurality of first regional portions extending in one direction and periodically arranged in a first intersection direction intersecting the first direction at a predetermined interval and a plurality of second regional portions arranged as extending in a second intersection direction intersecting the first direction between the adjoining first regional portions; and immersing the substrate in an etching solution so as to wet etch the substrate in portions corresponding to each region between the plurality of first regional portions and to each region below the plurality of second regional portions, so as to form a plurality of periodical recesses in the first intersection direction in the substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2020,JPO&INPIT【課題】本発明は、スティッキングの発生をより低減できる高アスペクト比構造物の製造方法および前記構造物ならびにこれを用いたX線撮像装置を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、所定の基板の少なくとも一つの主面に、前記主面に交差する方向に延びる複数の穴を形成する工程と、前記複数の穴を形成した前記主面に、一方向に延び、前記一方向と交差する第1交差方向に互いに所定の間隔を空けて周期的に配置される複数の第1領域部分と、互いに隣接する前記第1領域部分間に前記一方向と交差する第2交差方向に延びて配置される複数の第2領域部分と、を持つレジスト層を形成する工程と、前記エッチング液の中に浸漬することで前記複数の第1領域部分間それぞれおよび前記複数の第2領域部分下それぞれに対応する前記基板をウェットエッチングすることによって前記基板に前記第1交差方向に周期的な複数の凹部を形成する工程とを備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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