The present invention relates to a treatment device for a surface to be treated with a dielectric delayed plasma, comprising a housing 10 having end walls 14, 14 ''and at least one of said end walls 14, 14'' And electrodes 18, 33 that are protected from the surface being treated by the dielectric barriers 19, 34 forming part and can be connected to the high voltage generator 17. The end wall (14, 14 '') comprises at least one spacer (29, 29'') through which at least one chamber (29, 29 '' . The treatment device comprises a treatment with a dielectric delayed plasma and a metering of the therapeutic agent disposed in the end wall (14, 14 ''), the storage chamber (25, 25'' Permits the supply； The end wall (14, 14 '') has a passage opening (28, 28'')； The volume of the reservoir chamber 25, 25 ''may be reduced through the passage openings 28, 28'' when the volume is reduced so that the therapeutic reaches the area of the surface to be treated.본 발명은 유전체로 지연된 플라스마를 이용하여 치료되기 위한 표면을 위한 치료 장치에 대한 것으로서, 말단벽(14, 14')을 가진 하우징(10)을 포함하고 상기 말단 벽(14,14')의 적어도 일부분을 형성하는 유전체 장벽(19, 34)에 의해 치료되는 표면으로부터 보호되고 고전압 제네레이터(17)에 연결될 수 있는 전극(18, 33)을 포함한다. 상기 말단벽(14, 14')은 적어도 하나의 스페이서(29, 29')를 포함하며, 이를 통해, 상기 적어도 하나의 스페이서(29, 29')가 치료될 표면에 놓이게 되면 적어도 하나의 챔버가 형성된다. 상기 치료 장치는 유전체로 지연된 플라스마를 이용한 치료와 치료제로 채워질 수 있는 저장 챔버(25, 25')가 치료될 표면에서 멀어지는 방향을 향하고 있는 상기 말단벽(14, 14')에 배치되는 치료제의 계량된 공급을 허용하며； 상기 말단 벽(14, 14')은 통로 개구부(28, 28')를 가지며； 상기 저장 챔버(25, 25')의 체적은 체적이 줄어들 때 통로 개구부(28, 28')를 통해 치료될 표면의 영역으로 치료제가 도달하도록 줄어들 수 있다.
