您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

植栽基盤
专利权人:
KYODO KY TEC CORP
发明人:
YOSHIOKA KOJI,吉岡 孝治,YOSHIDA MINORU,吉田 稔,KUMURA KAZUO,工村 和生,ISHIHARA TATSUAKI,石原 竜彰,UEDA YASUYUKI,上田 靖之
申请号:
JP2014054070
公开号:
JP2014110813A
申请日:
2014.02.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planting base that can uniformly spread moisture all over the planting base even when water is supplied to a part thereof and that is inexpensive.SOLUTION: The planting base comprises at least a bottom portion and can place a cultivation material on the bottom portion, where: the bottom portion has a plurality of recesses for water storage or retention, capable of storing or retaining moisture, and a plural kinds of communication parts for communicating the recesses for water storage or retention with one another to allow water to flow through and the planting base is molded by vacuum forming as a whole.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】一部分に給水されたとしても万遍なく植栽基盤全体に水分を行き渡らすことができ、且つ安価な植栽基盤を提供する。【解決手段】少なくとも底部を有し、底部上に育成材を載置可能な植栽基盤において、底部は、水分を貯留又は保持可能な複数の貯水又は保水用凹部と、貯水又は保水用凹部相互を通水可能に連通する複数種類の連通部を有し、全体として真空成形で成形してなる植栽基盤。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充