METHOD OF SEED TREATMENT FOR PROTECTING PLANTS AFTER GERMINATION FROM THE ATTACK OF FOLIAR PHYTOPATHOGENIC FUNGI BY USE OF ARYLCARBOXYLIC ACID BIPHENYLAMIDES
The invention relates to a method of seed treatment for protecting plants after germination from the attack of foliar phytopathogenic fungi which comprises treatment of seeds by an effective amount of at least one arylcarbonic acid biphenylamides of formula (I)Wherein X is halogen or methyl； n is zero, 1 or 2, wherein when n is 2, the radicals X may have the same or different meanings； Y is cyano, nitro, halogen, C1-C4-alkyl, C1-C4-haloalkyl, C1-C4-alkoxy, C1-C4-haloalkoxy, C1-C4-alkylthio, C1-C4-haloalkylthio, C1-C4-alkoxy-iminomethyl or allyloxyiminomethyl； m is zero to 5, wherein when m is 2, 3, 4 or 5, the radicals Y may have the same or different meanings； Ar is an aryl radical of the formula IIa,Wherein R1 is hydrogen, halogen, C1-C4-alkyl or C1-C4-haloalkyl, R2 is C1-C4-alkyl, R3 is hydrogen, halogen or methyl, or an agriculturally acceptable salt thereof. The method may also include treating of seeds by said compounds together with fungicide or insecticide active ingredients. Besides, the invention relates to the use of said compounds for treating seeds for plants protection.Изобретение относится к способу защиты растений после прорастания от поражения листовыми фитопатогенными грибами, который включает обработку семян, из которых вырастают растения, эффективным количеством по меньшей мере одного бифениламида арилкарбоновой кислоты формулы Iгде X означает галоген или метил； n принимает значение 0, 1 или 2, где в случае, если n равно 2, радикалы X могут иметь одинаковые или разные значения； Y означает циано, нитро, галоген, С1-С4-алкил, С1-С4-галоалкил, С1-С4-алкокси, С1-С4-галоалкокси, С1-С4-алкилтио, С1-С4-галоалкилтио, С1-С4-алкоксииминометил или аллилоксииминометил； m принимает значение 0-5, где в случае, если m равняется 2, 3, 4 или 5, радикалы Y могут иметь одинаковые или разные значения； Ar означает арильный радикал формулы IIaгде R1 означает водород, галоген, С1-С4-алкил или C1-C4-галоалкил； R2 означает С1-С4-алкил； R3 означает водород, галоген или ме
