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IMPLANT WITH POROUS OUTER CORTICAL LAYER
专利权人:
发明人:
申请号:
HK18100190.8
公开号:
HK1240514A
申请日:
2018.01.05
申请国别(地区):
HK
年份:
2018
代理人:
摘要:
Embodiments of the invention described herein thus provide implants and methods for manufacturing an implant having an outer cortical layer that is porous. The porous outer cortical layer can help encourage tissue ingrowth into the implant. The porous outer cortical layer may be positioned around a core structure this is solid or that has a hollow interior. The core structure may be spherical or any other appropriate shape for a medical implant.Des modes de réalisation de linvention décrits ici concernent des implants ainsi que des procédés de fabrication dun implant présentant une couche corticale extérieure qui est poreuse. La couche corticale extérieure poreuse peut aider à favoriser la croissance interne de tissus dans limplant. Cette couche corticale extérieure poreuse peut être positionnée autour dune structure de noyau qui est solide ou qui présente un intérieur creux. La structure de noyau peut être sphérique ou de tout autre forme appropriée pour un implant médical.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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