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試験片及びその製造方法
专利权人:
CHIANG HUI-PING
发明人:
LIN YU-LIN,林 玉麟
申请号:
JP2013051281
公开号:
JP2013195426A
申请日:
2013.03.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test piece and a method of manufacturing the same.SOLUTION: A test piece includes an insulation substrate and a track metal pattern structure. The track metal pattern structure includes first, second, third, fourth, and fifth metal pattern layers accumulated from bottom to top. The pattern and position of these first to fifth layers completely overlap with each other. Both first and second metal pattern layers are a nano-level metal film made by a vacuum film formation process, having a quite favorable uniformity and low electric resistance, stabilizing the amount of a subsequent test current, preventing erroneous determination of data, and being capable of providing a speedy test speed.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】試験片及びその製造方法の提供。【解決手段】この試験片は、絶縁基板及び線路金属パターン構造を包含し、該線路金属パターン構造は、下から上に堆積された第1金属パターン層、第2金属パターン層、第3金属パターン層、第4金属パターン層、及び第5金属パターン層を包含し、そのうち、第1金属パターン層、第2金属パターン層、第3金属パターン層、第4金属パターン層、及び第5金属パターン層のパターン及び位置は完全に重畳し、且つ第1金属パターン層及び第2金属パターン層はいずれも真空成膜工程で製作したナノレベル金属膜であり、均一度が極めて良好で、且つ低電気抵抗であり、後続試験電流量を安定させ、データの誤判断を防止し並びにスピーディーな試験速度を提供できる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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