泥罨剂
- 专利权人:
- 久光制药株式会社
- 发明人:
- 水流诚一郎,槙正义
- 申请号：
- CN201680004916.1
- 公开号：
- CN107106513A
- 申请日:
- 2016.02.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 一种方法，其是在基布上具备膏体层的泥罨剂(膏剂)的制造方法，其包含将含有生理活性物质、水溶性聚合物、甘油及水的组合物涂布于上述基布，而形成膏体层的工序，涂布于上述基布的时间点的上述组合物在1Hz的动态黏弹性测定中的损失正切为0.75～1。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
