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一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法
- 专利权人:
- 叶士娟
- 发明人:
- 叶士娟
- 申请号：
- CN202010334770.5
- 公开号：
- CN111500028A
- 申请日:
- 2020.04.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及光催化抗菌材料技术领域，且公开了一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，包括以下配方原料及组分：WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料、硅烷偶联剂、低密度聚乙烯、聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、抗氧化剂。该一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜，在有机蒙脱土表面生成纳米TiO2，有效减少纳米TiO2团聚和聚集，Fe掺杂WO3和Ag3PO4共同修饰纳米TiO2，Fe掺杂增强了WO3在可见光吸收波段的光化学活性，TiO2光辐射下价带上产生空穴与羟基基团或者水分子，生成羟基自由基，WO3导带产生的光生电子与氧气反应生产超氧自由基，破坏了微生物的生长和繁殖，聚乙烯包覆住WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料，使WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料均匀分散在聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
