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POLYMER
专利权人:
주식회사 엘지화학
发明人:
김수정,윤정애,윤성수,김경섭,최기환,채해석
申请号:
KR1020150179516
公开号:
KR1017480440000B1
申请日:
2015.12.15
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present application relates to polymers and their uses. In the present application, a functional polymer exhibiting low solubility in polar and non-polar solvents can be provided. The polymer of the present application can be applied to various uses. For example, when applied to cosmetics such as mascara or other medicinal uses, the polymer can exhibit resistance to various solvents such as sebum, sweat and tears, A film forming agent for cosmetics, a cosmetic composition, or the like.본 출원은 고분자 및 그의 용도에 관한 것이다. 본 출원에서는, 극성 및 비극성 용매에 대하여 낮은 용해도를 나타내는 기능성 고분자를 제공할 수 있다. 본 출원의 고분자는 다양한 용도에 적용될 수 있으며, 예를 들면, 마스카라 등과 같은 화장품 또는 기타 의약 용도 등에 적용되면 피지, 땀 및 눈물 등과 같은 다양한 용매에 대하여 내성을 나타낼 수 있어서 화장 등의 지속성을 유지할 수 있도록 하는 필름 형성제, 화장품용 조성물 또는 화장품 등으로 사용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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