光照射装置
- 专利权人:
- 首尔伟傲世有限公司
- 发明人:
- 尹永民,李雅永,裵熙镐,洪晙杓
- 申请号：
- CN201980003183.3
- 公开号：
- CN111093766A
- 申请日:
- 2019.14.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的一实施例的光照射装置包括第一光源和第二光源,所述第一光源和所述第二光源在彼此重叠或即使不重叠也相邻的时期分别射出具有彼此不同波段的第一光和第二光,所述第一光是通过作用于存在于细菌中的光敏剂而使细胞损伤从而诱导所述细菌死亡的波段的光,所述第二光是通过使细菌中细胞的遗传物质的结构变化而诱导所述细菌死亡的波段的光,所述第二光的剂量小于所述第一光源的剂量的1/10。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
