您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

アバットメントの設計方法、及びアバットメントの製造方法
专利权人:
株式会社コアデンタルラボ横浜
发明人:
陸 誠
申请号:
JP2013028204
公开号:
JP5837522B2
申请日:
2013.02.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for designing an abutment that facilitates making an abutment and achieves a shape corresponding to individual circumstances of patients.SOLUTION: A method is provided for designing an abutment based on a margin line height, a margin line maximum radius, an abutment height and an inclination angle. The margin line height H1 is a distance between a height measuring position 25 that is a position on a line connecting between a reference point 20 set on the gingival surface in the periphery of an embedded dental implant and an intraoral side end face of the dental implant, where a margin line has to be disposed, and the intraoral side end face of the dental implant. The margin line maximum radius R1 is a maximum distance of distances between the axis line of the dental implant and the height measuring position. The abutment height HA is a distance from an intraoral side end part to an oral cavity inside tip of the dental implant of the abutment to be mounted. The inclination angle θ1 is an angle formed by the abutment inclining to an axis line of the planting direction of the dental implant in the reference point direction.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】簡易にアバットメントを作製することが可能であり、形状は患者の個別の状況に応じたものであるアバットメントの設計方法を提供する。【解決手段】埋設された人工歯根周囲の歯肉表面に設定された基準点20と、人工歯根の口腔内側端面と、を結ぶ線上で、かつ、マージンラインが配置されるべき位置である高さ測定位置25と、人工歯根の口腔内側端面との距離をマージンライン高さH1とし、人工歯根の軸線と高さ測定位置との距離のうち、最大のものをマージンライン最大半径R1とし、取り付けられるべきアバットメントの人工歯根の口腔内側端部から口腔内側先端までの距離をアバットメント高さHAとし、基準点方向において、アバットメントが人工歯根の埋入方向の軸線に対して傾く角度を傾斜角θ1としたとき、マージンライン高さ、マージンライン最大半径、アバットメント高さ、及び傾斜角に基づく。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
相关专利

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充