GRAHAM, Matthew, R.,PARTLO, William, N.,CHANG, Steven,BERGSTEDT, Robert, A.
申请号：
USUS2011/044058
公开号：
WO2012/012267A1
申请日:
2011.07.14
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要：
An extreme ultraviolet light system includes a steering system that steers and focuses an amplified light beam traveling along a propagation direction to a focal plane near a target location within an extreme ultraviolet light chamber, a detection system including at least one detector positioned to detect an image of a laser beam reflected from at least a portion of a target material within the chamber,, a wavefront modification system in the path of the reflected laser beam and between, the target location- and the detection system, and a controller. The -wavefront modification system is configured to modify the wavefront of the reflected laser beam as a function of a target focal plane position along the propagation direction. The controller includes logic for adjusting a location o f the focal plane of the amplified light beam relative to the target material based on the detected image of the reflected laser beam,Système de lumière dans lultraviolet extrême comprenant : un système de direction qui dirige et concentre un faisceau lumineux amplifié se déplaçant dans une direction de propagation sur un plan focal proche dun emplacement cible à lintérieur dune chambre pour lumière dans lultraviolet extrême un système de détection comprenant au moins un détecteur positionné pour détecter une image dun faisceau laser réfléchi par au moins une partie dun matériau cible dans la chambre un système de modification de front donde dans la trajectoire du faisceau laser réfléchi ainsi quentre lemplacement cible et le système de détection et une unité de commande. Le système de modification de front donde est conçu pour modifier le front donde du faisceau laser réfléchi en tant que fonction de la position dun plan focal cible dans la direction de propagation. Lunité de commande comprend une logique permettant de régler un point du plan focal du faisceau lumineux amplifié par rapport au matériau cible sur la base de limage détectée du faisceau laser réfléchi.
