COMPOSITION COMPRENANT CENTELLA ASIATICA, URTICA DIOICA ET DE L'ACIDE HYALURONIQUE POUR LE TRAITEMENT TOPIQUE DE LA PEAU

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专利权人:

SVAS BIOSANA SPA

发明人:

PERILLO, Umberto,PORZIO, Massimiliano

申请号：

IBIB2019/056446

公开号：

WO2020/021519A1

申请日:

2019.07.29

申请国别(地区):

IB

年份:

2020

代理人:

摘要：

A formulation for the topical treatment of the skin comprises an extract of centella asiatica, a source of phytosterols with anti-oxidant and anty-inflammatory activity comprising urtica dioica and hyaluronic acid or a salt thereof.Une formulation pour le traitement topique de la peau comprend un extrait de centella asiatica, une source de phytostérols à activité anti-oxydante et anti-inflammatoire comprenant de l'urtica dioica et de l'acide hyaluronique ou un sel de ceux-ci.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/