The invention relates to a device for processing material (M) by means of focused electromagnetic radiation comprising: a source (10), which emits electromagnetic radiation (12), means (14, 16, 18, 22, 26) for directing the radiation at the material (M), means (28) for focusing the radiation on or in the material (M), an apparatus (20) for producing a pattern (32) in the beam path of the electromagnetic radiation, an at least partially reflective surface (30) in the beam path in front of the focus (F) of the focused radiation, wherein said pattern (32) is imaged on said at least partially reflective surface (30) by means of at least some of said means for directing the radiation and said means for focusing the radiation, at least one detector (D1, D2), onto which an image of the pattern (32) of said surface (30) is reflected and which produces electrical signals corresponding to said image, wherein the image contains a piece of information about the position of the focal point (F), a computer (C), which receives said electrical signals and which is programmed to process said image in order to generate an electrical signal (34) that depends on the position of the focal point, and a divergence setting element (18), which is arranged in said beam path and designed to receive said electrical signal (34) of the computer (10) in order to change a divergence of the electromagnetic radiation according to the signal.본 발명은 집속 전자기 방사선으로 재료(M)를 가공하기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 장치는 전자기 방사선(12)을 방출하는 방사선원(10), 재료(M)에 방사선을 인도하기 위한 수단(14, 16, 18, 22, 26), 재료(M) 위에 또는 재료에 방사선을 집속하기 위한 수단(28), 전자기 방사선의 빔 경로에서 패턴을 생성하기 위한 수단(20), 집속 방사선의 초점(F) 이전의 빔 경로에서 적어도 일부 반사성의 반사면(30), 상기 패턴(32)은 방사선의 인도 수단 및 상기 집속 수단의 적어도 일부에 의해 상기 적어도 일부 반사성의 반사면(30)에 결상됨, 패턴(32)의 영상이 상기 반사면(30)에 의해 반사되어 보내지며 상기 영상에 상응하는 전기 신호를 발생시키는 적어도 하나의 검출기(D1, D2), 상기 영상은 초점(F)의 위치에 대한 정보를 포함함, 상기 전기 신호를 수신하며 초점 위치에 의존하는 전기 신호(34)를 발생시키기 위해 상기 영상을 처리하도록 프로그램된 컴퓨터(C), 상기 빔 경로에 배열되며 상기 신호에 의존하여 전자기 방사선의 발산을 변경하기 위해 컴퓨터의 상기 전기 신호(
