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表面改性的氧化钽纳米颗粒及其制备方法、利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂及高介电薄膜
专利权人:
首尔大学校产学协力团
发明人:
玄泽焕,吴明焕
申请号:
CN201180010631.6
公开号:
CN102905696A
申请日:
2011.02.22
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明涉及一种表面改性的氧化钽纳米颗粒及其制备方法、利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂以及高介电薄膜。具体涉及表面改性的氧化钽纳米颗粒、包括(i)在包含表面活性剂的有机溶剂中添加包含水的水相,制备油包水微乳液的工序,(ii)向上述微乳液中导入钽前驱体的工序,(iii)在(ii)中获得的溶液中添加包含有机硅烷基团或膦基团的表面改性剂,使其进行反应的工序,(iv)从上述(iii)工序的反应物去除有机溶剂的工序,以及,(v)从在上述(iv)工序获得的混合物分离表面改性的氧化钽纳米颗粒的工序的表面改性的氧化钽纳米颗粒的制备方法、以及利用该氧化钽纳米颗粒的X射线计算机断层摄影用造影剂及高介电薄膜。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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