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一种HDAC1和IDO1双靶点抑制剂及其制备方法和应用
专利权人:
华东理工大学
发明人:
王卫,盛春泉,方堃,张永强
申请号:
CN201711340795.0
公开号:
CN108003111A
申请日:
2017.12.14
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明公开了一种HDAC1和IDO1双靶点抑制剂及其制备方法和应用。本发明的抑制剂,结构如通式A所示,各取代基的定义如说明书和权利要求书所述。药理实验表明,本发明的化合物不仅表现出良好的HDAC1和IDO1酶抑制活性,而且具有一定广谱的体外抗肿瘤活性。体内实验表明,化合物能够有效地下调体内IDO1活性,并且能够明显的延缓肿瘤生长,可以应用于IDO1介导的色氨酸代谢途径的病理学特征的肿瘤疾病。该类化合物作为首次报道的基于HDAC1和IDO1的双靶点抗肿瘤药物,具有进一步开发和研究价值。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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