An intervertebral device (1) to be placed between two spinous processes of two adjacent vertebrae, comprising a spacer (10) having two opposite grooves (14A, 14B). Each groove is configured to engage a spinous process. At least one porous layer (51A, 52A, 53A, 51B, 52B, 53B) is fixed onto an inner face of each groove. This porous layer is adapted to interface with the spinous process by allowing bone growth in the porous layer. One or several elongated members (30A, 30B) are adapted to surround the spinous processes for maintaining the spinous processes engaged into the grooves (14A, 14B).La présente invention concerne un dispositif intervertébral (1) à positionner entre deux apophyses épineuses de deux vertèbres adjacentes, ledit dispositif comprenant un écarteur (10) ayant deux sillons opposés (14A, 14B). Chaque sillon est configuré pour se mettre en prise avec une apophyse épineuse. Au moins une couche poreuse (51A, 52A, 53A, 51B, 52B, 53B) est fixée sur une face interne de chaque sillon. Cette couche poreuse est conçue pour servir dinterface avec lapophyse épineuse en permettant la croissance osseuse dans la couche poreuse. Un ou plusieurs éléments allongés (30A, 30B) sont conçus pour entourer les apophyses épineuses et maintenir les apophyses épineuses en prise dans les sillons (14A, 14B).
